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自動循環(huán)氣體凈化系統(tǒng)(O2<1ppm,帶溫控系統(tǒng))
型號:
RMP-O2
產品概述:
RMP-O2是一款自動循環(huán)氧凈化系統(tǒng),并且?guī)в袦乜叵到y(tǒng),可為各種工作腔體去除氣體中的O2<1PPM,可配合本公司的管式爐使用。此款氣體凈化系統(tǒng)可取代昂貴的分子泵系統(tǒng)(10-6Torr),為晶體生長,CVD爐和鈦合金熱處理等提供更好的無氧環(huán)境。
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技術參數(shù)產品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
電源要求

·AC 208 - 240V 50/60Hz, 單相

·1500W 


凈化系統(tǒng)

·精密氧傳感器(沒有水傳感器)

·循環(huán)凈化前,自動清洗功能可將腔體內水氧降至O2<100ppm

·自動氣壓控制系統(tǒng)可確保連接的腔體內氣壓穩(wěn)定

·凈化柱:BASF的除氧材料和UOP的除水材料

·凈化能力: O2 < 1ppm (當氧含量達到1ppm時,水含量也可以確定達到1PPM)

·去除水量: 2kg

·去除氧量: 60L

·不銹鋼連接管道

·氣體流速: 1-60m3/h

·自動再生功能,用戶可設定參數(shù).

·6英寸PLC觸摸屏,可顯示:氧含量和氣壓值


凈化管道

·2根304不銹鋼波紋管(KF40接口),用于循環(huán)凈化系統(tǒng)中惰性氣體進出

·一個雙級旋片真空泵抽氣速率2.2L/s:VRD-8

·注意:您需要購買2根1000mm波紋管,1個KF40轉KF25接頭,1個KF40卡箍和1個KF25卡箍,用于凈化系統(tǒng)與本公司的手套箱相連接

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   真空泵              波紋管                  卡箍            KF40轉KF25接頭


工作氣體

·工作氣體:He, N2, Ar

·再生氣體: 95% 惰性氣體+ 5% H2 


凈化系統(tǒng)與本公司管式爐連接

·凈化系統(tǒng)上有接口可與本公司管式爐對接,觸摸屏顯示和監(jiān)控數(shù)值

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凈重

·60kg


尺寸

·960mm(L) x 700mm(W) x 800mm(H) 


應用注意

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       (1)            (2)             (3)                (4)              (5)

(1)Ti合金熱處理無需安裝傳感器,可替代高價格的分子泵系統(tǒng)

(2)連接手套箱用于去除氣體中的水分,是鋰離子電池實驗的低成本方案

(3)連接布里奇曼單晶爐,用于金屬單晶生長,節(jié)約Ar氣

(4)連接氣氛箱式爐,用于樣品燒結

(5)連接氣氛控制淬火爐


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