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PECVD系統(tǒng)
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可用于生長納米或石墨烯材料。
型號:
OTF-1200X-II-80-4CLV-PE(帶滑軌)
產(chǎn)品概述:
OTF-1200X-II-80-4CLV-PE(帶滑軌)是一款滑動式雙溫區(qū)PECVD管式爐系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源,雙溫區(qū)滑軌爐,4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和機械泵機組,可用于生長納米或石墨烯材料。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱型號

PECVD系統(tǒng) OTF-1200X-II-80-4CLV-PE(帶滑軌)


產(chǎn)品特點

· 射頻電源可實現(xiàn)等離子增強從而顯著降低實驗溫度

· 滑軌爐可使樣品快速加熱和快速冷卻

· 加熱爐含有兩個溫區(qū),溫度梯度最大可達200

· 可制備碳、氧化鋅納米管或納米線及單層石墨烯等


滑軌爐參數(shù)

· 電源:AC220V/50HZ

· 功率:3.0KW

· 加熱區(qū)長度:200mm*2

· 最高溫度:1200度(30min

· 工作溫度:1100

· 熱電偶:K

· 智能化儀表,PID控制,30段程序控溫

· 爐體可滑動位移:600mm

· 爐管尺寸:φ80*1400mm

圖片1.png

法蘭

· 標配一套不銹鋼真空法蘭

· 進氣端法蘭上安裝了一個機械壓力表用于觀察爐管內(nèi)的壓力,壓力表范圍-0.1-0.15MPa;一個φ6.35的卡套接頭作為進氣口使用,并通過一個不銹鋼針閥控制進氣的通斷

· 出氣端法蘭包含一個φ8mm寶塔氣嘴的出氣口,并通過一個不銹鋼針閥控制出氣的通斷。一個KF25接口為抽真空接口,用于連接真空系統(tǒng)。一個KF16的接口用于連接電阻真空計。

圖片2.png  圖片3.png

真空系統(tǒng)

· 電源:AC220V/50Hz

· 功率:0.55KW

· 極限真空度:5.0*10-1Pa(無負載)

· 抽氣速率:3L/s

· 抽氣口:KF25接口

· 可選配真空度更高的系統(tǒng)

圖片4.png

供氣系統(tǒng)

· 型號:GSL-4Z-LCD

· 質(zhì)量流量控制器:100SCCM、200SCCM200SCCM、500SCCM

· 量程可以選配

· 精度:±1.5%FS

· 最大壓力:0.3MPa

· 內(nèi)部連接1/4英寸不銹鋼和聚四氟管

· 內(nèi)置不銹鋼混氣罐

圖片5.png

射頻電源

· 功率輸出范圍:0-500W

· 功率穩(wěn)定度≤±5W

· 射頻頻率:13.56MHZ

· 自動匹配

· 噪音:50dB

· 冷卻方式:風(fēng)冷

圖片6.png

設(shè)備外形尺寸

2300*700*1380mm

圖片7.png

設(shè)備重量

240KG


質(zhì)保

一年質(zhì)保期,終生維護


· 特別提示:

1、耗材部分如加熱元件、爐管、樣品坩堝等不包含在內(nèi)

2、因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)

· 石英管內(nèi)的氣壓不可高于0.02MPa;

· 氣瓶上必須安裝減壓閥,為了確保安全,建議使用壓力低于0.02MPa,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全;

· 對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

· 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體,請客戶自行做好相關(guān)防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問題,本公司概不負責。


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