| 設備名稱 | 滑動式雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)——OTF-1200X-II-4CV-PE-SL （2019.12.23—科晶實驗室審核） |
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| 產(chǎn)品提示 | |||||||||||||||||||||||||||||||||
| 產(chǎn)品特點 | ? 射頻電源可實現(xiàn)等離子增強從而顯著降低實驗溫度； ? 滑軌式可快速加熱和快速冷卻； ? 兩個加熱區(qū)，溫度梯度最大可達 200oC； ? 可在溫度范圍較大的條件下制備材料，如碳、ZnO納米管或納米線及單層石墨烯等。 |
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| 加熱爐參數(shù) | ? 最高溫度：1200oC（<30min），連續(xù)工作溫度：1100℃； ? 兩個PID溫度控制器及50段可編程溫控系統(tǒng)； ? 輸入功率：208-240V，單相，最大功率：3KW； ? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗； ? 爐體開啟式設計，以達到對樣品快速降溫，方便更換爐管。
多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
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| 射頻電源 | ? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇，以滿足不同實驗條件的需求。
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| 真空系統(tǒng) | ? 采用TRP-12的雙旋真空泵； ? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵； ? 真空度可達10-2Torr。
·搭配TRP-12的雙旋真空泵（抽速3L/s）（總進氣量小于150sccm，該泵可以達到等離子發(fā)生真空度） ·搭配TRP-60雙旋真空泵（抽速10L/s）（總進氣量1L/min，該泵可以達到等離子發(fā)生真空度） |
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| 供氣系統(tǒng) | ? 四通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)可實現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）； ? 流量范圍:
? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz； ? 氣體進出口配件：6.35mm的聚四氟管或不銹鋼管； ? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出； ? PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設置。 注：接入供氣系統(tǒng)的氣源需搭配減壓閥，將氣壓降至2mpa以下
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| 產(chǎn)品尺寸和重量 | ? 設備總體尺寸：2200mm L′800mm W′1500mm H ? 凈重：610kg
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| 注意 | 采用氬氣高于射頻功率200w情況下，需特殊說明，設備需要特殊改造及測試，（有法蘭過熱情況） |
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| 認證 | ? 如您另外付費，我們可以保證單臺儀器的TUV(UL61010)或CSA 認證
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| 承諾 | ? 一年質(zhì)保期，終身維護（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件） ? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
科晶應用技術(shù)實驗室利用PECVD在不同功率（75W、150W、300W）條件下沉積Sb2Se3薄膜，實驗結(jié)果如下：
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb(%) | Se(%) | |||
未經(jīng)任何處理的樣品 |
|  | 40.01 | 59.99 |
75W等離子體處理5 min |
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| 41.04 | 58.96 |
150 W等離子體處理5 min |
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| 41.64 | 58.36 |
300 W等離子體處理5 min |
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| 41.86 | 58.14 |
小結(jié):
（1）等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌，同時改變Sb2Se3的組成；
（2）隨著射頻電源功率的增加，Sb2Se3中的Se百分含量降低。
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb(%) | Se(%) | |||
10W、3Pa條件下沉積Sb2Se3 |
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| 40.01 | 59.99 |
75W、133Pa條件下沉積Sb2Se3 |
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| 70.28 | 29.72 |
75W、3Pa且補充0.1g Se粉沉積Sb2Se3 |
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| 43.13 | 56.87 |
75W、3Pa且補充0.02g SnSe2粉末（10%質(zhì)量比Sb2Se3）沉積Sb2Se3 |
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| Sn: 22.78 Sb: 25.77 | 51.44 |
小結(jié):
（1）低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3；
（2）高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜；
（3）添加Se會破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比；
（4）當SnSe2質(zhì)量比為10%時，可以得到Sb：Sn摩爾比接近于1的薄膜，該方法適用于摻雜。
XRD結(jié)果
警示 | ? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa； ? 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時會更加精確安全； ? 石英管的長時間使用溫度＜1100℃； ? 當爐體溫度高于1000℃時，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)； ? 射頻電源工作時，請勿觸碰。 |
應用技術(shù)提示 | ? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm，以避免冷的大氣流對加熱石英管造成沖擊； ? 加熱時，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa，需立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂、法蘭飛出等）； ? 射頻電源在低氣壓、低功率條件下起輝。 |
防腐型真空表 （可選） | ? 輸入電源24V，1A DC（配有電壓轉(zhuǎn)換器）； ? 測量范圍3.8′10-5-1125 Torr； ? 數(shù)據(jù)顯示：數(shù)顯（屏幕尺寸為20′14mm），其單位為torr ? 連接：1/8"NPT 接頭 ? 產(chǎn)品尺寸 46mm×28mm×126mm ( L′W′ H)
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控溫儀表 （可選） | ? 單回路、雙回路和三回路控制模式； ? 每個回路可實現(xiàn)雙輸入，雙保護； ? 各回路可PID、串級、比率等回路控制； ? 數(shù)碼顯示，配備7個按鍵，可用于進行各控制回路的切換和參數(shù)修改； ? 最多可存儲50個程序，每個程序最多可有3個不同的設定值（即3條不同的曲線），最多可設置500段升降溫程序； ? 通訊方式多樣，Modbus/Profibus DP/DeviceNet/EI-Bisync/RS485通訊接口，可連接PC進行遠程控制。
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真空系統(tǒng) （可選） | ? 科晶公司提供一系列低真空、高真空及進口高真空設備，以滿足在不同真空條件下的實驗需求。
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供氣系統(tǒng) （可選） | ? 科晶公司提供各種通道浮子、質(zhì)子流量計可供選擇，以實現(xiàn)氣體流量的精確控制。
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