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產(chǎn)品分類

A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測(cè)設(shè)備其他實(shí)驗(yàn)室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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1200℃等離子增強(qiáng)小型PECVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)

型號(hào)：: OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE
產(chǎn)品概述：: OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃等離子增強(qiáng)雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)。此系統(tǒng)由射頻電源、雙溫區(qū)管式爐、4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的真空泵及水冷機(jī)組成。此套完整的設(shè)備系統(tǒng)特別適合用于無機(jī)復(fù)合粉末的熱處理以及粉末表面的改性處理工藝中（如：粉體摻雜（空穴、間隙原子）、表面改性、表面包覆及制備鋰離子電池陰極粉末的導(dǎo)電涂層等）。

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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

設(shè)備名稱

? 1200℃等離子增強(qiáng)小型PECVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)—OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE （2019.11.27—科晶實(shí)驗(yàn)室審核）

產(chǎn)品提示

1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示

展示

30ml粉料

產(chǎn)品特點(diǎn)

? 射頻電源可實(shí)現(xiàn)等離子增強(qiáng)從而顯著降低實(shí)驗(yàn)溫度；

? 齒輪驅(qū)動(dòng)管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性；

? 4通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可以對(duì)氣體的輸送進(jìn)行精確的調(diào)控；

? 爐體開啟式設(shè)計(jì)，以達(dá)到對(duì)樣品快速降溫，方便更換爐管。

工作電源

? 輸入電壓：AC208-220V，50/60Hz

? 總功率：<4KW

加熱爐參數(shù)

? 最高溫度：1100℃（<30min）；連續(xù)工作溫度：1000℃；

? 兩個(gè)PID溫度控制器及50段可編程溫控系統(tǒng)，控溫精度：±1℃；

? 工作電壓：110V；

? 額定功率：1.5KW；

? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度：0-5 rpm。

更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部

射頻電源

? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇，以滿足不同實(shí)驗(yàn)條件的需求。

	300W射頻電源	500W射頻電源	100W射頻電源
輸出功率	0-300W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）	0-500W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）	0-100W可調(diào) （穩(wěn)定性：±1%）
射頻頻率	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）	13.56 MHz （穩(wěn)定性：±0.5%）
匹配	自動(dòng)匹配	自動(dòng)匹配	手動(dòng)匹配
噪音	＜50dB	＜50dB	＜50dB
冷卻方式	風(fēng)冷	風(fēng)冷	風(fēng)冷
輸入電壓	AC180-250V	AC108-250V	AC110-240V
圖片

真空系統(tǒng)

? 采用TRP-12的雙旋真空泵；

? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；

? 真空度可達(dá)10-2Torr。

供氣系統(tǒng)

? 四通道質(zhì)子流量計(jì)控制系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）；

? 流量范圍:

一路	0-100 sccm
二路	0-200 sccm
三路	0-200 sccm
四路	0-500 sccm

? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz；

? 氣體進(jìn)出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管；

? 不銹鋼針閥用于手動(dòng)控制氣體進(jìn)出；

? PLC觸摸屏可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行氣體流量設(shè)置。

循環(huán)水冷機(jī)

? 標(biāo)配KJ-5000循環(huán)水冷機(jī)，水流速率：16L/min

產(chǎn)品尺寸和重量

? 尺寸：1400mm L′600mm W′1240mm H

? 凈重：90 kg

認(rèn)證

? 如您另外付費(fèi)，我們可以保證單臺(tái)儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證

承諾

? 一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件）

儀表操作視頻

科晶應(yīng)用技術(shù)實(shí)驗(yàn)室利用PECVD沉積Sb2Se3薄膜，實(shí)驗(yàn)結(jié)果如下：

組別	SEM結(jié)果	元素百分比
組別	SEM結(jié)果	*Sb (%)*	*Se(%)*
未經(jīng)任何處理的樣品		40.01	59.99
75W等離子體處理5 min		41.04	58.96
150 W等離子體處理5 min		41.64	58.36
300 W等離子體處理5 min		41.86	58.14

小結(jié):

（1）等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌，同時(shí)改變Sb2Se3的組成；

（2）隨著射頻電源功率的增加，Sb2Se3中的Se百分含量降低。

組別	SEM結(jié)果	元素百分比
組別	SEM結(jié)果	*Sb (%)*	*Se(%)*
10W、3Pa條件下沉積Sb₂Se₃		40.01	59.99
75W、133Pa條件下沉積Sb₂Se₃		70.28	29.72
75W、3Pa且補(bǔ)充0.1g Se粉沉積Sb₂Se₃		43.13	56.87
75W、3Pa且補(bǔ)充0.02g SnSe₂粉末（10%質(zhì)量比Sb₂Se₃）沉積Sb₂Se₃		Sn: 22.78 Sb: 25.77	51.44

小結(jié):

（1）低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3；

（2）高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜；

（3）添加Se會(huì)破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比；

（4）當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時(shí)，可以得到Sb：Sn摩爾比接近于1的薄膜，該方法適用于摻雜。

XRD結(jié)果：

警示

? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa；

? 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí)，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購(gòu)減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa，使用時(shí)會(huì)更加精確安全；

? 石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度＜1100℃；

? 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí)，爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài)，爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng)，保持在常壓狀態(tài)。

應(yīng)用技術(shù)提示

? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm，以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管造成沖擊；

? 加熱時(shí)，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱，則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa，需立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂、法蘭飛出等）。

石英管

? 高純異形石英管

? 尺寸：50 mm OD（兩端）′60mm ID（中間）′1100mm L

密封法蘭

? 一對(duì)不銹鋼快接法蘭（法蘭上安裝有KF25真空接頭）；

? 磁流體密封旋轉(zhuǎn)接頭安裝在兩端，以保證旋轉(zhuǎn)過程中進(jìn)氣管和其它附件的正常使用，避免卷繞。

配件法蘭1 配件法蘭2

進(jìn)料/收料器

? EQ-PF-1S是一款容積式自動(dòng)進(jìn)料器，包含電動(dòng)攪拌器及帶有振動(dòng)裝置的不銹鋼料斗，可實(shí)現(xiàn)固體粉料的自動(dòng)化進(jìn)料，從而實(shí)現(xiàn)固態(tài)粉料的連續(xù)式燒結(jié)/熱處理；

? 2L不銹鋼收集桶安裝在右側(cè)，可實(shí)現(xiàn)真空氣氛保護(hù)環(huán)境下的粉料樣品收集（標(biāo)配中包含）

收料器.png

進(jìn)料器收料器

防腐型真空表（可選）

? 輸入電源24V，1A DC（配有電壓轉(zhuǎn)換器）；

? 測(cè)量范圍3.8′10-5-1125 Torr；

? 數(shù)據(jù)顯示：數(shù)顯（屏幕尺寸為20′14mm），其單位為torr

? 連接：1/8"NPT 接頭

? 產(chǎn)品尺寸 46mm×28mm×126mm ( L′W′ H)

水冷機(jī)（可選）

? 工作電壓：220V AC 50Hz

? 工作電流：220V，0.8~4.5A

? 壓縮機(jī)功率：0.6 KW (0.8HP)

? 制冷量：2000W (7000Btu/hour)

? 冷卻劑：R22/R410-a (650g)

? 溫度控制：5~30℃

? 控溫精度：±0.3℃

? 水流速率：16 L / min ( 高25m，35psi )

控溫儀表（可選）

? 單回路、雙回路和三回路控制模式；

? 每個(gè)回路可實(shí)現(xiàn)雙輸入，雙保護(hù)；

? 各回路可PID、串級(jí)、比率等回路控制；

? 數(shù)碼顯示，配備7個(gè)按鍵，可用于進(jìn)行各控制回路的切換和參數(shù)修改；

? 最多可存儲(chǔ)50個(gè)程序，每個(gè)程序最多可有3個(gè)不同的設(shè)定值（即3條不同的曲線），最多可設(shè)置500段升降溫程序；

? 通訊方式多樣，Modbus/Profibus DP/DeviceNet/EI-Bisync/RS485通訊接口，可連接PC進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。

真空系統(tǒng)（可選）

? 科晶公司提供一系列低真空、高真空及進(jìn)口高真空設(shè)備，以滿足在不同真空條件下的實(shí)驗(yàn)需求。

低真空系統(tǒng)	國(guó)產(chǎn)高真空系統(tǒng)	進(jìn)口高真空系統(tǒng)

供氣系統(tǒng)（可選）

? 科晶公司提供各種通道浮子、質(zhì)子流量計(jì)可供選擇，以實(shí)現(xiàn)氣體流量的精確控制。

１浮子.png

單通道浮子單通道質(zhì)子兩通道浮子兩通道質(zhì)子多通道浮子（防腐）

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