- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
超聲霧化及靜電收集1200℃立式管式爐系統(tǒng)
- 型號:
- OTF-1200X-VT-III-PGEP
- 產(chǎn)品概述:
- OTF-1200X-VT-III-PGEP是一款多功能的合成系統(tǒng),針對于合成各種納米結(jié)構(gòu)氧化物以及納米材料的復(fù)合包覆工藝。此款儀器有三個主要模塊組成:超聲霧化裝置、1200℃三溫區(qū)立式管式爐和靜電收集裝置組成。材料制作大概分為三個步驟:前驅(qū)體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統(tǒng)是一款較為先進的合成系統(tǒng),可控制器顆粒尺寸,形態(tài),微納米結(jié)構(gòu)等,可廣泛應(yīng)用于納米材料制備、電極材料包覆復(fù)合等方面。
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系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
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? 霧化裝置:配有一個1.7MHz超聲霧化儀,可將液體霧化成液體顆粒,然后導(dǎo)入到管式爐中。 ? 加熱部分(管式爐):管式爐最高溫度可以達到1200℃。 ? 納米粉收集:電壓為30KV,可有效地收集由流動氣體帶過來的納米顆粒
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管式爐-加熱部分
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工作電壓&功率 | ? 單相, 220V AC,50/60 Hz ? 最大功率 7KW | 工作溫度 | ? 連續(xù)工作溫度:1100℃ ? 最高工作溫度:1200℃(<1h) | 推薦升溫速率 | ? ≤ 10℃/min | 加熱元件 | ? Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo,表面涂有氧化鋯涂層 | 加熱區(qū)長度 | ? 加熱區(qū):300mm+300mm+300mm=900mm | 控溫系統(tǒng) | ? 可設(shè)置50段升降溫程序,并帶有過熱和斷偶保護 ? 控溫精度為:+/- 1oC | 爐管 | ? 采用高純石英管 ? 石英管尺寸:Φ25*1560mm | 密封法蘭 | ? 上部配置有一個KF系列快接法蘭,與霧化裝置相連接,并通過三通連接有一個機械真空壓力表 ? 下部配置有一個KF系列的快接法蘭,與靜電收集器相連接 |
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超聲霧化裝置
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超聲霧化儀
| ? 220VAC ,1.7MHz超聲霧化儀 ? 液體罐標配為316不銹鋼材質(zhì)(PTFE及其它材質(zhì)的罐子可以與銷售聯(lián)系進行定制),并采用氟膠密封圈密封; ? 可設(shè)置1-8檔霧化量,通過調(diào)節(jié)檔位大小,控制霧化量的多少; ? 可實現(xiàn)連續(xù)運行霧化和定時運行霧化兩種功能。定時時間從30分鐘到180分鐘可調(diào)(每隔30分鐘調(diào)一檔位)。 | 氣體流量控制系統(tǒng)
| ? 標準配置有一個浮子流量計,流量計量程為 0.2-2L/min(其它量程可與銷售聯(lián)系定制) ? 可選配質(zhì)子流量計控制系統(tǒng),實現(xiàn)氣體流量的精確控制 | 液體注射系統(tǒng) | ? 標準配置有一套液體注射泵,用于自動進液 ? 注射泵配置有一個最大容積60ml的塑料針筒,用于盛放液體; ? 注射泵速度調(diào)節(jié)范圍: 0.004ml/min—70ml/min; |
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高壓靜電收集裝置
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高壓電源
| ? 輸入:208~240VAC單相,最大功率30W ? 數(shù)字顯示電壓和電流值,最大輸出電壓為30KV,最大輸出電流為1 mA; ? 帶有拉弧保護電路。 | 靜電收集器
| ? 收集筒進料口為KF25快速接頭,出氣口為外徑Φ12.7mm快速接頭; ? 收集筒預(yù)留一個KF25快速接頭,用于給收集筒抽真空; ? 正極棒和負極筒之間通過PTFE板連接,實現(xiàn)絕緣; ? 收集筒最大容積700ml,有效容積150ml。
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儀器重量
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? 約200kg |
外形尺寸
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? 長*寬*高=1710×800×2500mm |
質(zhì)保期
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? 一年質(zhì)保,終身維護(不包含爐管,密封圈和加熱元件) |
質(zhì)量認證
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? 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證
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使用注意事項
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? 石英爐管內(nèi)的氣壓不可大于0.02MPa(相對大氣壓) ? 氣瓶上必須安裝減壓閥(可在本公司購買) |
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