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氮化鎵(GaN)晶體基片
產(chǎn)品概述:
GaN易與AlN、InN等構(gòu)成混晶,能制成各種異質(zhì)結(jié)構(gòu),已經(jīng)得到了低溫下遷移率達(dá)到105cm2/Vs的2-DEG(因?yàn)?-DEG面密度較高,有效地屏蔽了光學(xué)聲子散射、電離雜質(zhì)散射和壓電散射等因素).科晶公司將為您提供高品質(zhì)低價(jià)位的氮化鎵晶體和基片。
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技術(shù)參數(shù)

制作方法:

HVPE(氫化物氣象外延法)

傳導(dǎo)類型:

N型;半絕緣型

電阻率:

R<0.05 Ω.cm; R

表面粗糙度:

<0.5nm

位錯(cuò)密度:

<5x106Ω.cm

可用表面積:

>90%

TTV:

≤15um

Bow:

≤20um

產(chǎn)品規(guī)格

晶體方向: 

注:可按照客戶要求加工尺寸及方向。

標(biāo)準(zhǔn)包裝

1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝

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