主要特點 | 多種濺射靶頭及電源可選,自由組合,具體請致電我公司銷售部。
根據(jù)所使用的電源(DC或RF),可以沉積金屬或非金屬材料。
一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭,可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換,不影響真空度。
可以安裝五種不同材料的靶材,每個靶頭可單獨設(shè)置濺射時間功率等參數(shù),用于生長不同成分的薄膜。
可選購多個射頻電源,同一時間濺射多個靶材。
可選配設(shè)備控制軟件,用電腦控制濺射的所有參數(shù)。 |
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濺射腔體 | 真空腔體采用304不銹鋼制作
腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (105 L)
鉸鏈式腔門,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
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濺射頭&樣品臺 | 5個1英寸的磁控濺射頭,帶有水冷夾層(圖一)
濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板
濺射距離:濺射距離可調(diào) 濺射角度:濺射角度可調(diào)
實驗時,需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合,(可在本公司購買導(dǎo)電銀漿)
可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖二)
設(shè)備需要一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖三)
原理圖請參考(圖四)
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樣品臺 | 直徑為150mm的樣品臺,上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺,帶有10mm的孔洞,每次露出一個樣品接收濺射成膜。
樣品臺尺寸:Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn),可制作16種不同組分的薄膜
樣品臺可以加熱,最高溫度可達600℃(根據(jù)配置不同可能會有變動,具體請咨詢銷售部)
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真空系統(tǒng) | 安裝有KF40真空接口
真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(參考值,具體請點擊)
可在本公司選購各種真空泵
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進氣 | 設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流 |
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靶材 | 所要求靶材尺寸:直徑為25mm,最大厚度3mm
可在本公司選購各種靶材
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薄膜測厚儀(可選) | 可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
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凈重 | 60Kg(不包括泵) |
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質(zhì)保 | 一年保修,終身技術(shù)支持。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
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使用提示 | 此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通
為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面
超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
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警告 | 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶 |
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國家專利 | 專利名稱:一種用于高通量鍍膜工藝的五靶磁控濺射鍍膜儀
專利號:ZL 2018 2 0416442.8
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