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五靶頭等離子射頻磁控濺射儀
關(guān)鍵字:
針對于MGI薄膜研究
型號:
VTC-5RF
產(chǎn)品概述:
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀,針對于高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料,通過5種元素,按16種不同配比組合。
免責聲明: 本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網(wǎng)站不可預(yù)知的BUG可能會造成數(shù)據(jù)與實物的偏差,請勿復(fù)制或者截圖。如果您對參數(shù)有異議,或者想了解產(chǎn)品詳細信息及更多參數(shù),請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,請勿將此參數(shù)用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。 如果您需要下載產(chǎn)品的電子版技術(shù)文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產(chǎn)品僅針對大陸地區(qū)客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
主要特點

多種濺射靶頭及電源可選,自由組合,具體請致電我公司銷售部。

 

根據(jù)所使用的電源(DC或RF),可以沉積金屬或非金屬材料。

 

一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭,可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換,不影響真空度。

 

可以安裝五種不同材料的靶材,每個靶頭可單獨設(shè)置濺射時間功率等參數(shù),用于生長不同成分的薄膜。

 

可選購多個射頻電源,同一時間濺射多個靶材。

 

可選配設(shè)備控制軟件,用電腦控制濺射的所有參數(shù)。

濺射腔體

真空腔體采用304不銹鋼制作

 

腔體內(nèi)部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (105 L)

 

鉸鏈式腔門,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口

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濺射頭&樣品臺

5個1英寸的磁控濺射頭,帶有水冷夾層(圖一)

 

濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板

 

濺射距離:濺射距離可調(diào)


濺射角度:濺射角度可調(diào)

 

實驗時,需要將靶材和靶材的銅墊片用導(dǎo)電銀漿粘合粘合,(可在本公司購買導(dǎo)電銀漿)

 

可以單獨訂購RF連接線作為備用(圖二)

 

設(shè)備需要一臺水冷機,用于靶頭冷卻(圖三)

 

原理圖請參考(圖四)

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     圖一

       圖二

       圖三

 

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        圖四

樣品臺

直徑為150mm的樣品臺,上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺,帶有10mm的孔洞,每次露出一個樣品接收濺射成膜。

 

樣品臺尺寸:Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn),可制作16種不同組分的薄膜

 

樣品臺可以加熱,最高溫度可達600℃(根據(jù)配置不同可能會有變動,具體請咨詢銷售部)

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真空系統(tǒng)

安裝有KF40真空接口

 

真空度:4.0e-5Torr(分子泵)(參考值,具體請點擊)

 

可在本公司選購各種真空泵

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進氣

設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶

 

設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流

靶材

所要求靶材尺寸:直徑為25mm,最大厚度3mm

 

可在本公司選購各種靶材

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薄膜測厚儀(可選)

可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

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凈重

60Kg(不包括泵)

質(zhì)保

一年保修,終身技術(shù)支持。


特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。

2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

 點擊查看售后服務(wù)承諾書。

使用提示

此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通

 

為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)

 

在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈

 

要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面

 

超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。

 

等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。

 

制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。

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  超聲波清洗機

       等離子清洗機

       蒸鍍儀

    手套箱


警告

注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。

 

氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。

 

濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

國家專利

專利名稱:一種用于高通量鍍膜工藝的五靶磁控濺射鍍膜儀

 

專利號:ZL 2018 2 0416442.8

 

尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權(quán)必究


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