- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
1200℃雙坩堝移動型管式爐
- 關(guān)鍵字:
- 雙溫區(qū)、開啟式、同時移動
- 型號:
- OTF-1200X-Ⅱ-S2
- 產(chǎn)品概述:
- OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐,通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟,并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱,并且通過對各個溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進拉出,實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā),適用于多層二維晶體材料的制備。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
管式爐
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雙溫區(qū)管式爐:兩個獨立的溫控系統(tǒng)對每個溫區(qū)進行獨立控溫 電壓:220V AC 50/60Hz 功率:3KW 加熱區(qū)長度:440mm 恒溫區(qū)長度:300mm 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設(shè)置在800℃時所測,僅供參考)(可點擊圖片查看詳細資料)
爐管材料:高純石英管 標(biāo)配爐管尺寸:Φ100(外)×Φ94(內(nèi))×640(長) 最高工作溫度:1200℃(<1h) 連續(xù)工作溫度:1100℃ 控溫精度:±1℃ 推薦升溫速率:10℃/min
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坩堝推送機構(gòu)(升降雙通道進料系統(tǒng))
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一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內(nèi)部,并與坩堝相連接,實現(xiàn)溫度的實時監(jiān)測(如圖1) 升降雙通道進料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中,上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封,兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接,保證進料在真空狀態(tài)或者氣氛保護狀態(tài)下進行運作(圖2) 進料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管(圖3) 在升降雙通道進料系統(tǒng)中最多可放入4個坩堝(圖4),利用推送系統(tǒng)可交替將4個不同蒸發(fā)源單個依次送入石英管中,也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發(fā)源一同送入,分別精確的推入兩個獨立的小石英管中(圖5),找到所需的蒸發(fā)溫度處進行共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā),保證實驗的重復(fù)性以及穩(wěn)定性(圖6)
圖1 圖2 圖3 圖4
圖5 圖6
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坩堝推送控制系統(tǒng)
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真空表
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機械壓力表+數(shù)顯壓力表 |
真空泵
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混氣系統(tǒng)
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此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng) 最大輸出功率:18W 工作溫度:5-45℃ 精度:±1%FS 質(zhì)量流量計量程:1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)
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水冷系統(tǒng)
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尺寸
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國家專利
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質(zhì)保期
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一年質(zhì)保期,終生維護 |
質(zhì)量認證
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使用注意事項
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爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài) 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 石英管的長時間使用溫度<1100℃ 對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)
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應(yīng)用舉例
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此款管式爐具有多種用途: 熱蒸發(fā):將蒸發(fā)料放入坩堝中,通過移動坩堝來精確找到所需蒸發(fā)溫度 HPCVD:通入反應(yīng)氣體實現(xiàn)反應(yīng)蒸發(fā)沉積 共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積:利用獨特的雙通道進料裝置可以實現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時送入,實現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積 多層二維晶體:此套設(shè)備可以實現(xiàn)多層二維晶體的制備(硒化物硫化物等),操作方便簡單,實驗更具精確性、重復(fù)性。
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國家專利
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專利名稱:多樣品通道自動切換進樣系統(tǒng)
專利號:ZL 2016 1 0396131.5
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