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實驗室小課堂-如何根據(jù)應(yīng)用選擇本公司濺射鍍膜儀或蒸鍍儀

發(fā)布時間：2020-07-17

	應(yīng)用	設(shè)備	特點
1	表面鍍貴金屬用于薄膜研究（<2”）	3靶等離子濺射鍍膜儀VTC-16-3HD	同一腔室中3靶頭用于貴金屬的濺射鍍膜
2	表面鍍各種金屬用于薄膜研究（<2”）	小型等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-16-SM	?磁控濺射鍍膜 ?最大濺射電流可達(dá)150mA，?可用于濺射各種輕金屬如Al, Sn, Zn 等
3	表面鍍絕大多數(shù)的金屬或無機非金屬材料薄膜（<2”）	精密溫控高真空蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1700X-SPC-2	?高真空蒸發(fā)鍍膜儀 ?蒸鍍溫度從200-1500℃（或選配B型熱電偶，蒸鍍溫度可從1200-1700℃）
4	表面鍍氧化物薄膜（<2”）	1英寸或2英寸300W射頻等離子磁控濺射儀VTC-2RF	?低成本 ?射頻電源
5	各種材料表面進(jìn)行光學(xué)涂層（多晶）（<4”）	超高真空4蒸發(fā)舟蒸發(fā)鍍膜儀GSL-1800-ZF4	?分子泵高真空 ?4個蒸鍍加熱舟
6	金屬及無機非金屬氧化物薄膜的外延生長（<4”）	DC/RF雙靶頭高真空等離子磁控濺射鍍膜儀VTC-600-2HD	?配備有直流以及射頻電源，分子泵 ?可用于各種材料薄膜的外延生長 ?同時配備測厚儀實時監(jiān)控薄膜厚度